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技術文章

石英玻璃材料簡介

石英玻(bo)璃(li)的(de)形成是由于其(qi)熔體(ti)高(gao)溫黏度(du)很高(gao)引起的(de)結(jie)果(guo)。用于制作半導體(ti)、電(dian)光(guang)源器(qi)、半導通(tong)信裝置、激光(guang)器(qi)、光(guang)學(xue)(xue)儀器(qi)、實驗室儀器(qi)、電(dian)學(xue)(xue)設備(bei)、醫療設備(bei)和耐高(gao)溫耐腐蝕的(de)化學(xue)(xue)儀器(qi)、化工、電(dian)子、冶金、建材以及國(guo)防(fang)等工業,應(ying)用十(shi)分廣泛。高(gao)純石英玻(bo)璃(li)可制光(guang)導纖維。

隨(sui)著半導體技術的(de)發展,石英玻璃被廣泛的(de)用(yong)于半導體生產(chan)的(de)各項(xiang)工序中。比如,直拉法把多晶(jing)轉化成單晶(jing)硅;清(qing)洗(xi)時用(yong)的(de)清(qing)洗(xi)槽;擴散時用(yong)的(de)擴散管、刻槽舟;離子注入(ru)時用(yong)的(de)鐘(zhong)罩等等。

石(shi)英玻璃(li)是一(yi)種(zhong)(zhong)只含二氧化硅單(dan)一(yi)成份的特種(zhong)(zhong)玻璃(li)。由于(yu)種(zhong)(zhong)類(lei)、工藝、原料 的不(bu)同(tong),國外常常叫做硅酸玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、熔融石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)、熔凝(ning)石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)、合成熔融石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying),以(yi)及(ji)(ji)沒有明(ming)確概念的透(tou)(tou)明(ming)、半(ban)透(tou)(tou)明(ming)、不(bu)透(tou)(tou)明(ming)石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)等(deng)。我國統稱(cheng)石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li),多按工藝方法、用(yong)途(tu)及(ji)(ji)外觀來分類,如電(dian)熔透(tou)(tou)明(ming)石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、連熔石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、氣煉透(tou)(tou)明(ming)石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、合成石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、不(bu)透(tou)(tou)明(ming)石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、光學石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、半(ban)導(dao)體用(yong)石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、電(dian)光源用(yong)石(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)等(deng)。人們習慣于用(yong)石(shi)英這(zhe)樣一個(ge)簡(jian)單(dan)的(de)詞(ci)匯來命(ming)名這(zhe)種材料,這(zhe)是絕對不妥的(de),因(yin)為(wei)石英是二(er)氧化硅結晶(jing)態的一種通稱,它與玻璃態二(er)氧化硅在理(li)化性質上是有區(qu)別的。

石英(ying)玻(bo)(bo)璃具有極低(di)(di)的(de)(de)熱膨(peng)脹系(xi)數,高的(de)(de)耐溫性(xing)(xing),極好的(de)(de)化學穩(wen)(wen)定(ding)性(xing)(xing),優良的(de)(de)電絕緣性(xing)(xing),低(di)(di)而穩(wen)(wen)定(ding)的(de)(de)超聲延遲性(xing)(xing)能(neng),最佳的(de)(de)透紫外光譜性(xing)(xing)能(neng)以(yi)及(ji)透可見光及(ji)近紅外光譜性(xing)(xing)能(neng),并有著高于普通玻(bo)(bo)璃的(de)(de)機械性(xing)(xing)能(neng)。因此它是近代尖端技術中空間技術、原(yuan)子能(neng)工(gong)業(ye)、國(guo)防裝(zhuang)備、自(zi)動化系(xi)統,以(yi)及(ji)半導體、冶金、化工(gong)、電光源、通訊、輕工(gong)、建(jian)材等工(gong)業(ye)中不可缺少的(de)(de)優良材料之一。

石(shi)(shi)英(ying)玻璃(li)(li)是用天(tian)然結晶石(shi)(shi)英(ying)(水晶或(huo)(huo)純的(de)(de)硅(gui)石(shi)(shi)),或(huo)(huo)合(he)成(cheng)硅(gui)烷經(jing)高溫熔(rong)制(zhi)(zhi)而(er)成(cheng)。熔(rong)融后的(de)(de)產(chan)(chan)品具(ju)有(you)(you)極好的(de)(de)加(jia)工(gong)性能,在(zai)(zai)其高的(de)(de)粘度(du)范圍(wei)內,可以將管(guan)和(he)棒進行(xing)有(you)(you)如(ru)普通玻璃(li)(li)細工(gong)一樣(yang)的(de)(de)熱(re)(re)加(jia)工(gong),還可以用金剛石(shi)(shi)或(huo)(huo)碳化硅(gui)制(zhi)(zhi)成(cheng)的(de)(de)磨(mo)具(ju)進行(xing)高速機械加(jia)工(gong),從而(er)制(zhi)(zhi)成(cheng)各(ge)種(zhong)(zhong)復雜形狀(zhuang)的(de)(de)儀器和(he)特種(zhong)(zhong)制(zhi)(zhi)品。石(shi)(shi)英(ying)玻璃(li)(li)的(de)(de)性能主(zhu)要(yao)取(qu)決于它的(de)(de)純度(du),其次(ci)是工(gong)藝過程或(huo)(huo)熱(re)(re)工(gong)制(zhi)(zhi)度(du)。微量雜質的(de)(de)存(cun)在(zai)(zai)將給石(shi)(shi)英(ying)玻璃(li)(li)的(de)(de)使用性能帶(dai)來重(zhong)大(da)的(de)(de)影響(xiang);同時(shi)由(you)于工(gong)藝過程或(huo)(huo)熱(re)(re)工(gong)制(zhi)(zhi)度(du)的(de)(de)稍有(you)(you)疏忽,將給外觀質量帶(dai)來多種(zhong)(zhong)多樣(yang)的(de)(de)缺陷,產(chan)(chan)生大(da)量的(de)(de)廢次(ci)產(chan)(chan)品。

純度是石(shi)英玻(bo)璃(li)的(de)(de)(de)重(zhong)要指標,對理化性(xing)能(neng)(neng)和使用(yong)(yong)性(xing)能(neng)(neng)影響甚大,如失透性(xing)、高溫強度、軟化點、光的(de)(de)(de)傳導、熱穩定(ding)性(xing)、化學穩定(ding)性(xing)、耐輻射性(xing)、熒光特(te)性(xing)等;此外(wai),用(yong)(yong)于半(ban)導體(ti)工業的(de)(de)(de)石(shi)英玻(bo)璃(li),對純度的(de)(de)(de)要求(qiu)更為苛(ke)刻,微量的(de)(de)(de)雜(za)質將給半(ban)導體(ti)材(cai)料的(de)(de)(de)電性(xing)能(neng)(neng)和壽命以(yi)及集(ji)成度帶來嚴重(zhong)的(de)(de)(de)影響。由于半(ban)導體(ti)材(cai)料的(de)(de)(de)純度要求(qiu)控制在ppb數(shu)量(liang)級以下,因此石英(ying)玻(bo)璃則應控制在PPm數量級以適應半導體工業(ye)的需要。B的分(fen)凝系數(shu)近于1,最難除掉,是(shi)最有害的雜(za)質之一(yi),CuFeTi等影響半(ban)導(dao)體的少子壽命,KNaLi是(shi)單晶材料產生微缺陷的有害雜質。

失透(又叫析晶性(xing))是石(shi)(shi)英玻(bo)璃的一個固有缺陷,從熱(re)力學觀點(dian)看,石(shi)(shi)英玻(bo)璃 的(de)內能(neng)高于(yu)結晶態方石英(ying),屬熱力學(xue)上不(bu)穩(wen)定的(de)亞穩(wen)態,當(dang)溫度(du)高于(yu)1000時(shi),SiO2 分子振動加速,經一段較長(chang)時間的(de)(de)重新(xin)排列(lie)、定向(xiang)便形成結晶。失透性是以(yi)晶核(he)成長(chang)速度來表(biao)示的(de)(de),不(bu)透明(ming)石英玻璃(li)在(zai)1520、透明石(shi)英玻璃(li)在1620析晶(jing)速度(du)分別(bie)達(da)到最大值。 析晶主要出(chu)現在表面,其次(ci)是內(nei)部缺(que)陷處,原(yuan)因(yin)是這些地方(fang)容易沾污(wu),引起(qi)雜質(zhi)離(li)子的局部集聚(ju),特別是堿離(li)子(如KNaLiCaMg等)進入網(wang)絡后引起粘度降低(di),促(cu)使失透加速。 由于石英(ying)玻璃(li)的熱膨脹系數和比(bi)重同(tong)析晶產物β-方(fang)石英相近,所以在高溫下連續(xu)使(shi)用時,盡管析晶(jing)區不斷(duan)擴大,但體(ti)積變化(hua)并不明(ming)顯,仍(reng)可(ke)(ke)滿意地繼續(xu)使(shi)用,此時尚可(ke)(ke)減輕玻璃的塑性變形,使(shi)耐火度提高。當析晶(jing)產(chan)物冷卻到800時,則出現細(xi)小的(de)龜裂網絡。繼續(xu)冷卻到200-275時,則出(chu)現(xian)方石(shi)英從高溫型到(dao)低溫型(即(ji)β-方石英→a-方石(shi)英(ying))的(de)結構變化,并(bing)伴(ban)隨著發生體積聚變,如果析晶層很深,則石(shi)英(ying)玻(bo)璃亦隨之破裂。由于析晶常常出現(xian)在有(you)雜(za)質的(de)地方,所以高溫使用前的(de)表面狀(zhuang)態及周圍(wei)耐(nai)火材料、氣氛十分(fen)重(zhong)要。

石(shi)(shi)英玻(bo)(bo)璃屬酸性材料,除氫氟酸和熱磷酸外,對其(qi)它任(ren)何酸均(jun)表現為(wei)惰(duo)性,是最好的耐酸材料。在(zai)(zai)常溫下堿和鹽對石(shi)(shi)英玻(bo)(bo)璃的腐蝕程度也是極(ji)微(wei)的,因(yin)此(ci)不排除在(zai)(zai)這(zhe)些(xie)試(shi)劑中(zhong)使用石(shi)(shi)英玻(bo)(bo)璃。透明石(shi)(shi)英玻(bo)(bo)璃比(bi)不透明石(shi)(shi)英玻(bo)(bo)璃具有(you)更好的化(hua)學(xue)穩(wen)定性,這(zhe)是因(yin)為(wei)后者由于氣泡的存(cun)在(zai)(zai)暴露在(zai)(zai)腐蝕液中(zhong)的表面(mian)積增加所致。

石英玻(bo)璃(li)的(de)(de)(de)結構十分松弛,甚至在高溫(wen)下還允(yun)許(xu)某(mou)些氣(qi)體的(de)(de)(de)離子通過(guo)網(wang)絡進行擴散(san),其中以(yi)鈉離子的(de)(de)(de)擴散(san)為(wei)最快。石英玻(bo)璃(li)的(de)(de)(de)這(zhe)一性能對于(yu)(yu)使(shi)用(yong)者尤為(wei)重要(yao),例如,半(ban)導(dao)體工業用(yong)石英玻(bo)璃(li)作為(wei)高溫(wen)容器(qi)或擴散(san)管時,由于(yu)(yu)半(ban)導(dao)體材料(liao)要(yao)求很高的(de)(de)(de)純度,所(suo)以(yi)要(yao)求與(yu)石英玻(bo)璃(li)接(jie)觸(chu)的(de)(de)(de)作為(wei)爐(lu)襯的(de)(de)(de)耐火材料(liao)必(bi)須預先經(jing)過(guo)高溫(wen)和清潔處理,除掉鉀、鈉等堿性雜質,然后才能放入石英玻(bo)璃(li)內使(shi)用(yong)。

石英(ying)玻璃(li)的光(guang)(guang)(guang)學性能有其(qi)獨到(dao)之處,它既可以(yi)透(tou)過(guo)遠(yuan)紫外(wai)(wai)光(guang)(guang)(guang)譜(pu),是所有透(tou)紫外(wai)(wai)材料(liao)最優者(zhe),又可透(tou)過(guo)可見光(guang)(guang)(guang)和近紅外(wai)(wai)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)。用戶可以(yi)根據需要,從185-3500mμ波段(duan)范(fan)圍(wei)內任意選擇(ze)所(suo)需(xu)品種。由于石(shi)英玻璃耐高溫,熱(re)膨脹(zhang)系數極小,化學(xue)(xue)熱(re)穩定性(xing)好(hao),氣泡、條紋、均勻性(xing)、雙(shuang)折射(she)又(you)可(ke)與一般光(guang)學(xue)(xue)玻璃媲美,所(suo)以(yi)它是在各種惡劣場合下工作具有高穩定度(du)光(guang)學(xue)(xue)系統的必(bi)不可(ke)少(shao)的光(guang)學(xue)(xue)材(cai)料。石(shi)英玻璃的結構(gou),雜質(zhi)含量(liang),OH基因及NOCO等含量是影響(xiang)光譜透過率的主要因素,氧原子結合不良在0.24μ處則有(you)吸收峰(feng),含有(you)OH基團(tuan)的石英玻璃(li),在2.7μ處由于分子振動(dong)將產生明顯的(de)吸收峰,紫外透過率(lv)低主要是由于金屬雜質多造成原(yuan)子吸收光譜(pu)所(suo)致。 石英(ying)玻璃的光譜(pu)特性曲線(xian) 電(dian)熔石(shi)英(ying)玻璃是很好的(de)透紅外材料(liao),但由于(yu)雜質的(de)存在,紫外透過率低(di)。氫氧焰熔制水晶所獲得的(de)石(shi)英(ying)玻璃,由于(yu)氧結(jie)構缺陷(xian),在0.24μ處(chu)有(you)吸收峰(feng),同時(shi)含有(you)OH基團(tuan),所以紅外(wai)透過極低。用合成原(yuan)料氣煉(lian)的高純光學石英玻(bo)璃(li)是最好(hao)的透紫外(wai)材料,但在2.7μ處有嚴重的OH吸收峰。只有用(yong)合成(cheng)原(yuan)料(liao)通過(guo)電熔或無(wu)氫火焰熔融而(er)成(cheng)的(de)光(guang)(guang)學(xue)石英玻璃,才能很好地(di)透過(guo)從遠紫外(wai)到近紅(hong)外(wai)的(de)連續光(guang)(guang)譜(pu)。

石英玻璃(li)的熱膨脹系(xi)數(shu)小,為5.5×10-7/,只有普通玻璃(li)的1/121/20.標準規定將試樣灼(zhuo)燒到1200后(hou)(hou)急速投到冷水中,反復三次以上(shang)不(bu)允(yun)許(xu)炸裂。石英玻(bo)璃加入適量鈦元素后(hou)(hou)還可(ke)做成零(ling)膨脹系數(shu)的材料,在激光(guang)技術、天文和(he)尖(jian)端技術中。

注意事項:

1.
石英(ying)玻璃制品(pin)是貴(gui)重的材料,使(shi)用時必須輕拿輕放,十(shi)分小心;

2.各種石英(ying)玻(bo)璃都有一(yi)個最高使(shi)用溫(wen)度,使(shi)用時不應超過此溫(wen)度,否則會析晶或軟化變形;

3.需高溫使(shi)(shi)用的石(shi)英玻璃,使(shi)(shi)用前必須擦拭干凈(jing)。可以用10%的氫氟酸或(huo)洗(xi)液浸泡,然(ran)后用(yong)高純水清洗(xi)或(huo)酒(jiu)精處理。操作時應戴細(xi)線手套,不允許用(yong)手直接觸及石英玻(bo)璃;

4.高(gao)溫下允許(xu)連續(xu)使用(yong)石英(ying)玻璃(li)(li)制(zhi)(zhi)品(pin),這對延長石英(ying)玻璃(li)(li)的(de)壽命和提高(gao)耐溫性能是(shi)有(you)好(hao)處的(de)。反之,高(gao)溫下間歇使用(yong)石英(ying)玻璃(li)(li)制(zhi)(zhi)品(pin),其使用(yong)次(ci)數是(shi)有(you)限的(de);

5.石英(ying)玻璃(li)材(cai)質雖具有(you)極高的熱穩定性,可以經(jing)受劇烈的溫差(cha)驟變。但實際使(shi)(shi)用時(shi),由(you)于殘(can)余應變和產品形狀不同,熱穩定性有(you)一定的差(cha)別,使(shi)(shi)用時(shi)應加以注(zhu)意;

6.石英(ying)玻璃系酸性(xing)(xing)材料(liao),高溫使用(yong)時嚴格避免同堿(jian)性(xing)(xing)物質(如水玻璃、石棉、鉀鈉(na)的化合物等(deng))接觸,否則將(jiang)大大降低(di)其抗結晶性(xing)(xing)能。

主要性能(neng)

不同的性(xing)能

參數

JGS1

JGS2

JGS3

尺寸(cun)

<Φ200mm

<Φ300mm

<Φ200mm

透過(guo)范圍
(
透過(guo)比)

0.17~2.10um
(Tavg>90%)

0.26~2.10um
(Tavg>85%)

0.25~3.50um
(Tavg>85%)

調制解調器容量

1200 ppm

150 ppm

5 ppm

熒(ying)光(guang)度 (ex 254nm)

Virtually Free

Strong v-b

Strong V-B

雜質容量(liang)

5 ppm

20-40 ppm

40-50 ppm

應力雙折(zhe)射

2-4 nm/cm

4-6 nm/cm

4-10 nm/cm

熔(rong)融(rong)法

Synthetic CVD

Oxy-hydrogen melting

Electrical melting

應用(yong)

Laser substrate: Window, lens, prism, mirror...

Semiconductor and high temperature window

IR substrate

相同的性(xing)能

密度(du)

2.20g/cm3

阿貝系數

67.6

折射率(lv) (nd) 588nm

1.4586

波長 (um)

折射率(lv) (n)

波長 (um)

折射率 (n)

0.200

1.55051

1.000

1.45042

0.220

1.52845

1.064

1.44962

0.250

1.50745

1.100

1.44920

0.300

1.48779

1.200

1.44805

0.320

1.48274

1.300

1.44692

0.360

1.47529

1.500

1.4462

0.400

1.47012

1.600

1.44342

0.450

1.46557

1.700

1.44217

0.488

1.46302

1.800

1.44087

0.500

1.46233

1.900

1.43951

0.550

1.46008

2.000

1.43809

0.588

1.45860

2.200

1.43501

0.600

1.45804

2.400

1.43163

0.633

1.45702

2.600

1.42789

0.650

1.45653

2.800

1.42377

0.700

1.45529

3.000

1.41925

0.750

1.45424

3.200

1.41427

0.800

1.45332

3.370

1.40990

0.850

1.45250

3.507

1.40566

0.900

1.45175

3.707

1.39936